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口腔局部疾患是主要導致口臭的原因，但不容忽視的是，口臭也常是某些嚴重系統(tǒng)性疾病的口腔表現(xiàn)，有一些器質性疾患也會導致口臭癥。饑餓、食用了某些藥物或洋蔥、大蒜等刺激性食物、抽煙、睡眠時唾液分泌量減少所致的細菌大量分解食物殘渣等都可能引起短暫的口臭。而健康人的口臭可能由于不良的口腔習慣和口腔衛(wèi)生造成舌背的菌斑增多、增厚所引起。由于舌背的表面積大，有許多乳頭、溝裂和凹陷，有利于細菌、口腔粘膜脫落上皮、食物殘渣等的滯留，充當“細菌儲藏室”，有利于口臭的產生。有研究表明，口臭程度、揮發(fā)性硫化物的量與舌苔厚度及面積均存在正相關關系，其中與舌苔厚度的關系更為密切，清除舌苔后揮發(fā)性硫化物減少。這可能因為舌苔越厚，越易形成厭氧環(huán)境，越利于厭氧菌的生長，從而也越利于揮發(fā)性硫化物的產生，導致口臭。

口腔局部疾患是主要導致口臭的原因，但不容忽視的是，口臭也常是某些嚴重系統(tǒng)性疾病的口腔表現(xiàn)，有一些器質性疾患也會導致口臭癥。饑餓、食用了某些藥物或洋蔥、大蒜等刺激性食物、抽煙、睡眠時唾液分泌量減少所致的細菌大量分解食物殘渣等都可能引起短暫的口臭。而健康人的口臭可能由于不良的口腔習慣和口腔衛(wèi)生造成舌背的菌斑增多、增厚所引起。由于舌背的表面積大，有許多乳頭、溝裂和凹陷，有利于細菌、口腔粘膜脫落上皮、食物殘渣等的滯留，充當“細菌儲藏室”，有利于口臭的產生。有研究表明，口臭程度、揮發(fā)性硫化物的量與舌苔厚度及面積均存在正相關關系，其中與舌苔厚度的關系更為密切，清除舌苔后揮發(fā)性硫化物減少。這可能因為舌苔越厚，越易形成厭氧環(huán)境，越利于厭氧菌的生長，從而也越利于揮發(fā)性硫化物的產生，導致口臭。

口腔局部疾患是主要導致口臭的原因，但不容忽視的是，口臭也常是某些嚴重系統(tǒng)性疾病的口腔表現(xiàn)，有一些器質性疾患也會導致口臭癥。饑餓、食用了某些藥物或洋蔥、大蒜等刺激性食物、抽煙、睡眠時唾液分泌量減少所致的細菌大量分解食物殘渣等都可能引起短暫的口臭。而健康人的口臭可能由于不良的口腔習慣和口腔衛(wèi)生造成舌背的菌斑增多、增厚所引起。由于舌背的表面積大，有許多乳頭、溝裂和凹陷，有利于細菌、口腔粘膜脫落上皮、食物殘渣等的滯留，充當“細菌儲藏室”，有利于口臭的產生。有研究表明，口臭程度、揮發(fā)性硫化物的量與舌苔厚度及面積均存在正相關關系，其中與舌苔厚度的關系更為密切，清除舌苔后揮發(fā)性硫化物減少。這可能因為舌苔越厚，越易形成厭氧環(huán)境，越利于厭氧菌的生長，從而也越利于揮發(fā)性硫化物的產生，導致口臭。